Présentation de l'entreprise
Mission proposée
Le sujet concerne la réalisation de tube intensificateur d’image de rayons X pour une application de radiologie médicale ; Dans le cadre de la fabrication du scintillateur X par PVD nous révisons notre méthode de préparation de surface du substrat en aluminium.
Le sujet comporte plusieurs volets :
· bibliographie des technologies d’attaques des aluminiums de la classe 5000
· définition d’un bain d’attaque de l’aluminium compte tenu des critères recherchés
· définition d’une méthode de caractérisation des bains d’attaques en vue du suivi de production
· participation à la mise en œuvre d’une chaîne automatique de traitements
· analyse et caractérisation des défauts ponctuels présents à la surface du substrat
· définition des critères de tri de la qualité du substrat en relation avec les exigences qualité de la couche du matériaux scintillateur
· analyse de la contamination particulaire et propositions d’action correctives
· mise en œuvre du clean concept
L’ensemble des ces éléments devra conduire à la définition d’une technologie de préparation de substrat au dépôt PVD compatible avec la qualité souhaitée de l’image X.; cela en intégrant les contraintes techniques et économiques propres à un procédé industriel .